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自立式6吋快速退火炉(RTP-3-06系列)

RTP-3-06系列自立式6吋快速退火炉采用红外辐射加热技术，可实现大尺寸样品(6英寸)快速升温和降温，可用于快速热处理(RTP)、快速热退火(RTA)、快速热氧化(RTO)、快速热氮化(RTN)及金属合金化等半导体工艺。
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自立式快速退火炉
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产品特点

  • 可测大尺寸样品：可测单晶片样品的尺寸为6英寸(150mm)。

  • 压力控制系统创新设计：高精度控制压力，以满足不同的工艺要求。

  • 存储热处理工艺：方便工艺参数调取，提高实验效率，数据可查询。

  • 快速升温：最高升温速率可达150℃/s。

  • 程序设定与气路扩展：可实现不同温度段的精确控制，进行降温段的自动转接，并能够对工艺菜单进行保存，方便调用。采用MFC精确控制气体流量，最多可支持6路气体，实现不同气氛环境（真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等）下的热处理。

  • 全自动智能控制：采用全自动智能控制，包括温度、时间、气体流量、真空、冷却水等均可实现自动控制。

  • 超高安全系数：采用炉门安全温度开启保护、温控器开启权限保护以及设备急停安全保护三重安全措施，全方位保障设备使用安全。

  • 分区控温：分区域控制加热功率，提高温度均匀性。

  • 国产退火炉：拥有自主研发技术和制造能力，能快速反应客户售后需求。

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快速退火炉
国产快速退火炉
6吋快速退火炉
自立式6吋快速退火炉
上一个：自立式8吋快速退火炉(RTP-3-08系列)
下一个：自立式4吋快速退火炉(RTP-3-04系列)

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