行业资讯-快速退火炉_液氮低温恒温器_薄膜热电参数测试仪_霍尔效应测试系统_物性测量系统

07-04 2025 

氮化镓（GaN）是一种性能优异的宽禁带半导体材料，因其高电子迁移率、高击穿电压和良好的高温稳定性，被广泛应用于LED、电力电子、射频通信和生物传感器等领域。为了深入研究和优化GaN材料的电学性能，霍尔效应测试仪HET成为不可或缺的工具。&n···

06-24 2025 

首先说结论，RTP（Rapid Thermal Processing）是所有快速热处理的统称！但不限于：RTA（快速热退火）、RTO（快速热氧化）、 RTN（快速热氮化）、合金化... ...RTP与RTA、RTO、RTN之间的联系RTP设···

06-19 2025 

在集成电路制造过程中，氧化工艺是形成高质量二氧化硅（SiO₂）薄膜的关键步骤。随着技术的不断发展，对氧化层的均匀性、致密度和表面质量的要求日益提高。快速退火炉（RTP）作为一种高效的快速热处理技术，在集成电路制造氧化工艺中发挥着重要作用。&···

06-12 2025 

磁性材料或易受磁场影响的材料或器件，需要处于零磁场中测试。嘉仪通冷热台可利用磁屏蔽材料实现无磁场干扰下，进行不同温度的电性能测试。磁场屏蔽方案介绍零磁场环境：真空腔体喷涂地磁屏蔽涂料或者使用坡莫合金，实现零磁场屏蔽环境；低温变温···

05-28 2025 

在MOCVD工艺中，外延薄膜的生长速率与温度存在高度非线性关系，且温度波动会直接影响薄膜的均匀性和结晶质量。根据温度的变化可以将外延薄膜生长行为大致分成三个区：动力学控制区、质量传输控制区、热力学控制区： ···

05-21 2025 

2025年5月15日-17日，由浙江大学材料科学与工程学院主办的第七届材料微结构与性能学术会议在杭州黄龙饭店隆重举行。作为材料科学领域的高规格学术盛会，本次会议有包括张泽院士、杨德仁教授等众多海内外权威专家参会，共同探讨材料显微结构、电池催···

05-15 2025 

温度均匀性在光刻工艺中的烘烤固化过程中至关重要，它直接影响光刻胶的固化质量和最终的图案质量。温度曲线控制对图案质量的影响在光刻胶PI固化过程中，不同类型的光刻胶PI具有特定的固化温度曲线，一般烤箱可预设温度曲线，而不是不是线性加热，精确控制···

05-08 2025 

2025年4月26日上午，西安石油大学理学院党委书记席利哲一行莅临嘉仪通，开展本科人才培养方案调研及访企拓岗工作。企业总经理王愿兵、产品研发总经理李顶房及相关负责人热情接待，双方围绕学生就业、人才培养、科研合作及实习实训基地建设等议题展开深···

04-26 2025 

4月23日，2025九峰山论坛暨化合物半导体产业博览会在光谷国际会展中心盛大开幕。作为国内化合物半导体领域规模大、层次高的行业盛会，本届论坛吸引了全球近300家产业链龙头企业齐聚，覆盖从材料、设备到制造、应用的全产业链生态。嘉仪通科技作为半···

04-23 2025 

针对半导体器件在γ射线辐照环境下的低温稳定性问题，嘉仪通采用液氮低温恒温器LNT-3系统，结合精密源表与钴源辐照装置，构建了HBT器件低温辐射损伤特性测试平台。液氮低温恒温器LNT-3：• 提供连续可调的低温实验环境（控温精度±0.1K）；···