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河南仕佳光子顺利验收快速退火炉与TC-Wafer校准仪，半导体工艺装备再升级
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- 发布时间：2026-09-17
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【概要描述】河南仕佳光子科技股份有限公司近日顺利完成快速退火炉与TC-Wafer校准仪的验收工作，标志着公司在半···
河南仕佳光子顺利验收快速退火炉与TC-Wafer校准仪，半导体工艺装备再升级
【概要描述】河南仕佳光子科技股份有限公司近日顺利完成快速退火炉与TC-Wafer校准仪的验收工作，标志着公司在半···
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河南仕佳光子科技股份有限公司近日顺利完成快速退火炉与TC-Wafer校准仪的验收工作，标志着公司在半导体工艺设备与温度监控能力方面迈上新台阶。
此次验收的快速退火炉RTP-3S06产品，采用红外辐射加热及冷壁技术，可实现实验样品的快速升温和降温，完成特定条件下的热处理工艺。该设备广泛应用于半导体集成IC电路分立器件、MEMS、太阳能电池、半导体照明LED及磁性材料等领域，工艺涵盖化合物半导体晶体生长、外延、薄膜淀积、氧化扩散及快速退火等环节，为公司相关研发与生产提供了有力支撑。
同时，TC-Wafer校准仪采用便携式平板电脑、数据采集单元与晶圆传感器相结合的方式，能够在工艺循环的每个关键步骤中直接对晶圆温度进行实时测量，并在升温、保温和冷却期间提供晶圆温度图表，为工艺管理提供了快速、直观的手段。工艺工程师可利用这些温度数据表征和微调工艺条件，从而推动工艺设备性能改进以及晶圆质量和良率提升。
该套设备适用于半导体制造厂Fab、硅片厂、晶圆制造厂及半导体设备制造商等场景，可服务于RTP、Furnace、Hot Plate等高温工艺设备腔体温度的监控。此次验收进一步增强了仕佳光子在半导体工艺领域的装备实力，为后续技术研发和产品品质提升奠定了坚实基础。
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