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碳化硅材料+霍尔效应测试的组合，正推动SiC器件迈向高效可靠的未来
- 分类： 行业知识
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- 来源：本站
- 发布时间：2025-07-23
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【概要描述】碳化硅（SiC）作为第三代半导体材料的代表，凭借其高击穿场强、优异的热导率和耐高温性能，已成为功率电···
碳化硅材料+霍尔效应测试的组合，正推动SiC器件迈向高效可靠的未来
【概要描述】碳化硅（SiC）作为第三代半导体材料的代表，凭借其高击穿场强、优异的热导率和耐高温性能，已成为功率电···
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碳化硅（SiC）作为第三代半导体材料的代表，凭借其高击穿场强、优异的热导率和耐高温性能，已成为功率电子、光电器件等领域的“明星材料”。氧化铝锌氧化物（AlZnO）薄膜的镀层技术提供了一个提升SiC器件性能的新思路！
AlZnO镀层：SiC性能提升的“黄金搭档”
1. 表面钝化，漏电流的“终结者”
AlZnO薄膜可有效钝化SiC表面缺陷，抑制载流子复合，显著降低漏电流。霍尔效应测试显示，镀层后SiC的载流子迁移率提升，器件击穿电压更高，稳定性更强——这正是功率电子器件高效运行的核心保障！
2. 欧姆接触优化，导电效率飞跃
p型SiC与金属电极的欧姆接触一直是技术难点。AlZnO作为透明导电层，通过霍尔测试验证，其接触电阻降低，导电效率大幅提升，助力LED和高功率器件性能突破！
3. 透明导电+抗反射，光电器件的“双赢”
AlZnO兼具高透光率（>85%）和低电阻特性。作为抗反射层，它还能将SiC器件的光吸收效率提升，光伏和紫外LED应用如虎添翼！
霍尔效应测试仪：SiC材料研究的“科学之眼”
国防科技大学团队利用霍尔效应测试仪HET对AlZnO/SiC样品进行精准测量，获得以下关键数据（如图）：
碳化硅材料+霍尔效应测试的组合，正推动SiC器件迈向更高效率、更可靠的未来！无论是研发还是量产，精准的电学特性测量都是性能优化的基石。选择专业霍尔效应测试仪HET，让每一组数据都成为技术突破的可靠支点！
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