行业知识-快速退火炉_液氮低温恒温器_薄膜热电参数测试仪_霍尔效应测试系统_物性测量系统

07-10 2025 

氧化镓（Ga₂O₃）作为新兴的宽带隙半导体材料，凭借其超高的击穿电场强度、优异的耐高温性能以及出色的紫外光响应特性，正成为高功率电子器件、深紫外光电器件等领域的研发热点。精准测试其电学特性（如载流子浓度、迁移率、电阻率等），也是材料研究与器···

07-04 2025 

氮化镓（GaN）是一种性能优异的宽禁带半导体材料，因其高电子迁移率、高击穿电压和良好的高温稳定性，被广泛应用于LED、电力电子、射频通信和生物传感器等领域。为了深入研究和优化GaN材料的电学性能，霍尔效应测试仪HET成为不可或缺的工具。&n···

06-24 2025 

首先说结论，RTP（Rapid Thermal Processing）是所有快速热处理的统称！但不限于：RTA（快速热退火）、RTO（快速热氧化）、 RTN（快速热氮化）、合金化... ...RTP与RTA、RTO、RTN之间的联系RTP设···

06-19 2025 

在集成电路制造过程中，氧化工艺是形成高质量二氧化硅（SiO₂）薄膜的关键步骤。随着技术的不断发展，对氧化层的均匀性、致密度和表面质量的要求日益提高。快速退火炉（RTP）作为一种高效的快速热处理技术，在集成电路制造氧化工艺中发挥着重要作用。&···

06-12 2025 

磁性材料或易受磁场影响的材料或器件，需要处于零磁场中测试。嘉仪通冷热台可利用磁屏蔽材料实现无磁场干扰下，进行不同温度的电性能测试。磁场屏蔽方案介绍零磁场环境：真空腔体喷涂地磁屏蔽涂料或者使用坡莫合金，实现零磁场屏蔽环境；低温变温···

05-28 2025 

在MOCVD工艺中，外延薄膜的生长速率与温度存在高度非线性关系，且温度波动会直接影响薄膜的均匀性和结晶质量。根据温度的变化可以将外延薄膜生长行为大致分成三个区：动力学控制区、质量传输控制区、热力学控制区： ···

05-15 2025 

温度均匀性在光刻工艺中的烘烤固化过程中至关重要，它直接影响光刻胶的固化质量和最终的图案质量。温度曲线控制对图案质量的影响在光刻胶PI固化过程中，不同类型的光刻胶PI具有特定的固化温度曲线，一般烤箱可预设温度曲线，而不是不是线性加热，精确控制···

04-23 2025 

针对半导体器件在γ射线辐照环境下的低温稳定性问题，嘉仪通采用液氮低温恒温器LNT-3系统，结合精密源表与钴源辐照装置，构建了HBT器件低温辐射损伤特性测试平台。液氮低温恒温器LNT-3：• 提供连续可调的低温实验环境（控温精度±0.1K）；···

04-16 2025 

材料的发光特性随温度的变化规律是揭示其光物理机制、优化性能的重要依据。嘉仪通高精度控温冷热台与光纤/图像传感器系统，实现了一种高效、可靠的变温发光特性测试方案，并论证了该技术在材料科学研究中的可行性与创新价值。冷热台通过液氮-电阻加热复合系···

04-10 2025 

液氮低温恒温器作为一种能够提供宽温区和高精准度温度环境的设备，在红外探测器的温度光波敏感性测试中发挥了重要作用。它可以与激光器、半导体参数仪等设备联用，实现对材料和器件在不同温度下的光响应及光灵敏度的测试。山西大学利用液氮低温恒···